РАЗРАБОТКА ТЕХНОЛОГИИ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОПРЕОБРАЗОВАТЕЛЕЙ НА ОСНОВЕ КРИСТАЛЛИЧЕСКОГО КРЕМНИЯ - А.Т.Рахманов; А.Х.Абдикаримов (ОБРАЗОВАНИЕ НАУКА И ИННОВАЦИОННЫЕ ИДЕИ В МИРЕ, 2024)
Аннотация. При разработке технологии изготовления фотопреобразователей на основе кристаллического кремния установлены, что химические процессы при производстве фотопреобразователей используют практически на всех стадиях технологического цикла. В целом при разработке технологии химической обработки фотопреобразователей решались следующие задачи: очистка поверхности полупроводника от различного рода загрязнений и оксидных пленок; удаление механически нарушенного слоя; контролируемое изменение характеристик поверхности полупроводника; травление p-n структур в целях управляемого изменения характеристик готовых приборов; контролируемое удаление материала для получения пластин необходимой толщины; получение требуемого рельефа поверхности; разделение пластин на кристаллы; выявление дефектов кристаллической структуры; модификация свойств поверхности; осаждение металлических покрытий для создания контактов. При разработке технологии механической обработки кристаллов для фотопреобразователей решалась задача получения исходных полупроводниковых пластин необходимых размеров, формы и профиля с соответствующим качеством поверхности. Эта задача решалась путем разрезания слитков кремния на пластины, их дальнейшей шлифовкой и полировкой.